Pas Normal Studios Off-Race Down Liner Jacket
- Reflektierende Logos vorne und hinten
- Zwei leicht zugängliche Fronttaschen mit Patten
- Interne Handytasche in der rechten Tasche
- Einzelne Seitennahttasche
- Packbar in die eigene Seitennahttasche
- Verstellbare Kapuze mit Kordelzug
- Zwei-Wege-Reißverschluss mit Hypalon-Zipper
- Pertex® PFC-freies DWR
- ExpeDRY Daunen von ALLIED
- 900er Fill-Power
- 100% Nylon
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